Подписание Соглашения между Beneq и Санкт-Петербургским государственным электротехническим университетом (СПбГЭТУ) об открытии совместной лаборатории для исследований и отработки промышленных применений метода атомно-слоевого осаждения (ALD)

Дата начала: 12.03.2013

Дата окончания: 12.03.2013

Время проведения: 15.00

Место и адрес проведения: Санкт-Петербург, Преображенская пл., д. 4. Генеральное консульство Финляндии

Программа: 15:00
“Приветственное слово. Цели и стратегия развития компании Beneq Ltd в России. Представление Российской команды.”
Сампо Ахонен, ген. директор, Beneq
15:20
Официальная церемония подписания соглашения об открытии совместной лаборатории для исследований и отработки промышленных применений метода атомно-слоевого осаждения (ALD).
15:50
Кофе-брейк
Перспективы ALD в мире:
16:10
“Непрерывный ALD – решение для высокой производительности.”
Дэйвид Кэмерон, Профессор, факультет энергетических технологий, Лаппеенрантский технологический университет
16:30
“Lumineq: 30 лет опыта применения ALD в промышленном масштабе для производства электролюменисцентных дисплеев.”
Арто Паккала, Директор по продажам на рынке э/л дисплеев, Beneq
16:50
“Европейское финансирование совместных исследований. Перспективы ALD в европейских программах поддержки исследований FP7 и Horizon 2020.”
Пирьо Пасанен, Консультант, Spinverse
17:10
Кофе-брейк
17:30
Круглый стол:
“Тонкопленочные технологии и модернизация российской промышленности. Будущее технологий ALD в России.”
18:15
Заключение, вопросы, ответы.
18:30-20:00
Фуршет

Контакты для регистрации: Юлия Асейкина, +79215646179, russia@beneq.com

Условия участия: Регистрация

Дополнительная информация:

Участие в мероприятии уже подтвердили представители Генерального консульства Финляндии в Санкт-Петербурге, РОСНАНО, Комитета по промышленной политике и инновациям СПб, руководство Бенек и СПбГЭТУ.
Бенек (Beneq Оy™) - финская компания, основанная в 2005 году, получившая от РОСНАНО в 2012 году инвестиции в размере 25 млн. евро, ведущий поставщик промышленного и исследовательского оборудования и технологий для получения тонких пленок, использующихся в солнечных панелях, гибкой электронике и других областях. Оборудование компании применяется для нанесения покрытий, укрепляющих поверхности и защищающих их от влаги, повреждений и потускнения. Помимо этого технологии компании позволяют создавать светофильтры, изменяющие коэффициент пропускания света. Решения компании также востребованы в оптике и светотехнике, органической и гибкой электронике и медицине. Компания вывела на рынок несколько революционных инноваций в области синтеза тонких пленок, таких как: непрерывное рулонное ALD (Roll-to-Roll ALD) и высокопроизводительные аэрозольные покрытия (nAERO™). Бенек так же предлагает полный спектр услуг по нанесению тонких пленок.

Бенек является ведущим в мире производителем тонкопленочных люминесцентных дисплеев, прочность и надежность которых обеспечены технологией ALD (в 2012 году Бенек приобрел крупнейшее в мире производство на основе технологии ALD, численностью 100 чел.) Эти дисплеи продаются под брендом Lumineq.

Технология ALD базируется на последовательных химических реакциях между паром и твёрдым телом и имеет свойство самоограничения. Концепция процесса АСО была впервые предложена В. Б. Алесковским (Ленинградский технологический институт) в его кандидатской диссертации, опубликованной в 1952 году. В 70-х годах 20 в. технология была доработана в Финляндии и коммерциализована во многих странах мира.
По вопросам аккредитации обращайтесь, пожалуйста:
Юлия Асейкина, +7 921 564 61 79, Russia@beneq.com
Для получения более подробной информации:
Олег Рождественский, +7 911 211 82 46, Oleg.Rozhdestvenskiy@beneq.com

Автор: Юлия Асейкина